1.打开真空泵和基因枪的电源开关;
2.打开氦气瓶阀门,旋转氦气调节杆,使气压高于所选可裂万压力200psi 左右;
3.旋下可裂膜挡盖,将可裂膜放在挡盖中央,将挡盖旋上,用专用板水平加固;
4.将微粒发射装置移出轰击室,旋下盖子,放入阻挡网,把微粒载片安装在固定槽中(有微粒的一面朝下),旋上盖子,将发射装置放回轰击室;
5.将样品盘放置在轰击室的适当位置,关上轰击室门;
6.按VAC开关(上档)抽真空,当表上读数为所需值时,开关打到HOLD(下档),然后按住FIER开关,当达到适当压力可裂膜自动破裂,松开FIER开关;
7.开关打到VENT(中间档),以释放轰击室内的真空;
8.打开轰击室门,取出样品盘;
9.取出微粒发射装置,卸下微粒载膜和阻挡网(阻挡网和微粒载膜放入70%的酒精浸泡);
10.旋下可裂膜档盖,清除可裂膜碎片;
11.若PDS-1000基因枪不再使用,关掉氦气瓶的主阀,按住FIER开关,按住FIE开关,放掉气体加速管内的氦气压力,最后关掉全部电源。 |